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1200℃高校實(shí)驗(yàn)室坩堝爐

高校實(shí)驗(yàn)室坩堝爐集控制系統(tǒng)與爐膛體，其中爐膛保溫材料采用整體真空吸附成型，加熱元件采用硅鉬棒。超大口徑的石英爐腔和真空密封法蘭系統(tǒng)，可在流動(dòng)氣氛和真空狀態(tài)下快速加熱樣品。主要用于金屬、非金屬及化合物材料進(jìn)行燒結(jié)、融化、分析。控制面板配有智能溫度調(diào)節(jié)儀，控制電源開關(guān)、主加熱工作/停止按鈕，以便隨時(shí)觀察。1200℃高校實(shí)驗(yàn)室坩堝爐適用范圍：該款坩堝熔化爐的各項(xiàng)指標(biāo)均達(dá)到要求，主要用于煅燒真空或惰性氣體保護(hù)下的高純度化合物或擴(kuò)散半導(dǎo)體晶片，也可用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料。產(chǎn)品名稱120...

1400℃高校實(shí)驗(yàn)氣氛爐

1400℃高校實(shí)驗(yàn)氣氛爐是奧菲達(dá)儀器專為學(xué)校實(shí)驗(yàn)室心研制的氣氛爐，產(chǎn)品具有合理的結(jié)構(gòu)，升溫快，操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn)，實(shí)驗(yàn)氣氛爐摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲為加熱元件，采用真空成型工藝技術(shù)生產(chǎn)的進(jìn)口無(wú)機(jī)纖維作為爐膛的保溫材料和特殊的絕熱設(shè)計(jì)。爐體采用雙層爐殼結(jié)構(gòu)，高性能隔熱材料，并配有冷卻風(fēng)扇，使?fàn)t體外表面溫度低,比普通窯爐節(jié)能60%。爐門、爐頂采用高溫硅橡膠密封，爐門配備水冷系統(tǒng)。可預(yù)抽真空并可通入多種惰性氣體。適用范圍：實(shí)驗(yàn)氣氛爐適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、新材料...

實(shí)驗(yàn)室灰化爐

實(shí)驗(yàn)室灰化爐產(chǎn)品概述:實(shí)驗(yàn)室灰化爐廣泛用于義齒加工行業(yè)，科研機(jī)構(gòu)，氧化鋯燒結(jié)等領(lǐng)域。實(shí)驗(yàn)室灰化爐特點(diǎn)：（1）工作溫度：1100℃（短時(shí)間為1200℃）。（2）通過(guò)將腔室包圍在具有熱效率的氧化鋁纖維陶瓷絕緣層中，可以實(shí)現(xiàn)大的能源效率。（3）三側(cè)電阻絲線圈，用于快速均勻加熱。（4）重型雙層結(jié)構(gòu)，帶冷卻風(fēng)扇。外殼溫度較低。（5）石英玻璃制成的直徑為0.5英寸的觀察窗，允許用戶在加熱操作過(guò)程中看到室內(nèi)。（6）實(shí)驗(yàn)室灰化爐通過(guò)限流相角對(duì)電阻進(jìn)行PID自動(dòng)控制，例如SCR（硅控制整流器）...

1200℃三溫區(qū)管式氣氛爐

AFD三溫區(qū)管式氣氛爐以摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲為加熱元件，三個(gè)加熱區(qū)分別進(jìn)行30段程序控溫，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，可以預(yù)抽真空并能通氫氣、氬氣、氮?dú)狻⒀鯕狻⒀趸肌狈纸鈿獾葰怏w,具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火用的理想產(chǎn)品。1200℃三溫區(qū)管式氣氛爐適用范圍：主要應(yīng)用于CVD實(shí)驗(yàn)，熒光粉制備，真空或氣氛燒結(jié)、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實(shí)驗(yàn)環(huán)境.是各大材料...

1200℃立式管式氣氛爐

AFD系列立式管式氣氛爐的*設(shè)計(jì)能夠?qū)崿F(xiàn)在真空或氣氛保護(hù)條件下對(duì)樣品快速升降溫，四面加熱，溫場(chǎng)更均勻，立式結(jié)構(gòu)使得氣體排放更加順暢，爐體垂直安裝在可移動(dòng)支架上有利于爐管取放溫度的均勻性，可以預(yù)抽真空并能通氫氣、氬氣、氮?dú)狻⒀鯕狻⒀趸肌狈纸鈿獾葰怏w，該爐具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，特別適合薄膜生長(zhǎng)、電測(cè)試、氧化物晶體生長(zhǎng)、快速退火等實(shí)驗(yàn)需要！1200℃立式管式氣氛爐適用范圍：立式管式氣氛爐主要應(yīng)用于院校實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，應(yīng)用于高、中、低溫CV...